フォトマスク– tag –

リードリンテックが開発した新たなペリクル膜は、カーボンナノチューブを用いた多孔質構造により、極端紫外線（EUV）を高い均一性で透過する。半導体の微細化が進む中、製造工程の安定性を担保する技術として注目される。透過率のばらつきを抑える測定手法...